半导体工程 铜线CMP后清洗剂 – Clean-100

---High Performance Post-CMP Cleaner for Cu

日本和光纯药株式会社（WAKO）是专业从事化学品（药品）研究、开发与生产的大型企业。
针对半导体CMP工程后道清洗的要求需要，WAKO开发出了专门适合的清洗剂（Post CMP Cleaner）CLEAN-100（柠檬酸清洗液）。

1．一次清洗就能够有效得清除杂质。
2．稀释20至30倍后，仍能有效除去金属杂质和颗粒。（减低了用户的成本）
3．不破坏保护铜表面的Cu-BTA薄层。
4．不腐蚀铜线，没有特别需要避免使用的设备和材料。
5．高纯度，高稳定性。可保存一年以上。
6． 不含有毒化合物，有利于环境保护。

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